一：
合金溅射靶材技术百科
问题1：生产高纯金属溅射靶材对身体有害吗
合金溅射靶材答：有靶材中毒的说法，但是靶材中毒指的是靶材受到外界环境影响或者遇到氧化物等致使靶材不能导电等正常使用，不是说靶材对人体有毒。一般靶材对人没有毒的，个别化合物靶材可能对人体接触面有伤害，接触的时候注意隔离。
问题2：磁控溅射中的靶材分为金属合金靶和陶瓷靶,那像一些金属氧化物的靶材为
答：首先靶材有纯金属靶，也有合金靶（两种或者多种金属掺在一起），还有就是一些不导电的靶材，好多都是氧化物的靶材。把氧化物的靶材成为陶瓷靶也不是很规范的。常用的靶材有：硅铝靶、氧化钛靶、锡靶、锌铝、锌锡、锌锡。
问题3：合金或化合物靶溅射时,会产生选择溅射,会造成什么影响,如何消除_百度
答：不同材料不同现象，根据靶材成分和镀膜层成分测试，大多材料的选择现象不是太明显。选择溅射造成的影响是膜层成分不断发生变化，相应表现出颜色和性能的改变。要想消除，必须明确材料成分和镀膜工艺参数，不同设备也会有轻微。
问题4：靶材的制作工艺
答：若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。2）磁控溅射靶材种类：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物。
问题5：劳斯莱斯小金人纯金吗
答：在长度，横截面积一定时，温度越低，镍铬合金的电阻越大，这与一般的规律是相反的。镍铬合金在真空镀膜行业也应用较广，可以做成一定比例的合金靶材，作磁控溅射镀膜的原材料。小金人车标是可以进行升降操作的，这一设计也是。
问题6：在材料化学方面,中国还有哪些方面需要突破?
答：1、新一代信息技术产业用材料加强大尺寸硅材料、大尺寸碳化硅单晶、高纯金属及合金溅射靶材生产技术研发，加快高纯特种电子气体研发及产业化，解决极大规模集成电路材料制约。加快电子化学品、高纯发光材料、高饱和度光刻胶。
问题7：软金和硬金哪个价值高
答：由于硬金和软金在工艺上的差别，所以它们的用途也不一样，相比来说的话，硬金的价格要比软金便宜很多，但硬金可用于各种镶嵌，这样能让黄金饰品变得更有价值，而软金用来制作各种黄金艺术品，比较适合人们收藏。
问题8：九五至尊99999金贵,还是9999贵呢?
答：这类黄金一般全是黄金占多数。尽管高纯金纯度极高，但材质也是出现异常绵软，因此高纯金关键用于半导体元器件和规模性集成电路芯片中的键共用金_，及其用于溅射靶材，又或者高纯度金钴合金等，不容易用于珠宝设计行业。
问题9：磁控溅射一定要求靶材表面抛光吗
答：溅射发生在靶材表面，靶材表面物理状态不均匀也没有关系，溅射的时候会先溅射凸起，溅射时间长了，靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。溅射过程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质，所以如果是表面容易变质的。
问题10：离子束沉积与离子束溅射是一个意思吗
答：不是，离子束沉积是一次离子束沉积，由固态物质的离子束直接打在衬底上沉积形成薄膜。离子束溅射是二次离子束沉积，是由惰性气体电离产生高能离子束轰击靶材进行溅射，沉积到衬底上成膜。
二：
合金溅射靶材技术资料
问题1：表面处理中液体溅射源具有什么作用
答：discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：(1)金属、合金或。
问题2：真空溅射镀膜要度有颜色的膜如钛金、玫瑰金、玫瑰红、紫金需要什么靶材
合金溅射靶材答：气体只有几种，如氩气氮气乙炔氧气，靶材就钛靶和锆靶！数据只是参考，经验是数据重要！不懂打我公司电话0577-86312296。
问题3：劳斯莱斯小金人是什么材料做的
合金溅射靶材答：特种合金、不锈钢等都是常见和常用的镍铬合金在长度，横截面积一定时，温度越低，镍铬合金的电阻越大，这与一般的规律是相反的。镍铬合金在真空镀膜行业也应用较广，可以做成一定比例的合金靶材，作磁控溅射镀膜的原材料。
问题4：劳斯莱斯上边的小金人是什么材料做的?
答：特种合金、不锈钢等都是常见和常用的镍铬合金在长度，横截面积一定时，温度越低，镍铬合金的电阻越大，这与一般的规律是相反的。镍铬合金在真空镀膜行业也应用较广，可以做成一定比例的合金靶材，作磁控溅射镀膜的原材料。
问题5：真空镀膜和光学镀膜有什么区别
答：简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜。
问题6：真空镀膜原理(里面用到中频··多弧的)
答： [3]如果靶材导热性能差、靶材由于热应力而引起碎裂、靶材含有低挥发性的合金组分等情况施加功率只能在2-10W/cm2以下。 [4]靶功率的耗散能力要求精心设计靶(阴极)的各个传热和散热环节:靶材的热性能、靶材与冷套的热。
问题7：请问pvd是什么工艺?
合金溅射靶材答：它的作用是可以使某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应。
问题8：先导薄膜材料(广东)有限公司怎么样?
合金溅射靶材答：先导薄膜材料(广东)有限公司的经营范围是：在全球领域内开发、生产、绑定、销售平板及旋转氧化铟锡及其掺杂的（“ITO”）溅射靶材（“ITO靶材”），和ITO蒸镀材料，以及销售与镀膜相关的材料，包括有色金属新型合金材料、真空。
问题9：含钛铝锭,起什么样的作用
答：制成的潜艇，既能抗海水腐蚀，又能抗深层压力，其下潜深度比不锈钢潜艇增加80%。同时，钛无磁性，不会被水雷发现，具有很好的反监护作用。钛铝合金在真空镀膜行业也应用较广，可以做成一定比例的合金靶材，作磁控溅射镀膜的原。
问题10：阴极发光仪和离子溅射仪原理有什么区别
答：这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。(3)利用。
三 ：