一：
溅射镀膜靶材技术百科
问题1：影响靶材镀膜沉积速率的因素有哪些?
答：影响沉积速率的因素有很多,包括工作气体的种类、工作气体的压力、溅射靶的温度、磁场强度等但是今天,我们要谈谈影响磁控溅射靶材镀膜沉积速率的3个重要因素:溅射电压、电流和功率溅射电压(V)溅射电压对成膜速率的影响有这样。
问题2：靶材的制作工艺
答：若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。2）磁控溅射靶材种类：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物。
问题3：什么是PVD镀膜靶材?他的原理是什么?
溅射镀膜靶材答：电弧等离子镀,离子镀等PVD膜沉积速度快,附着力强,衍射性好,应用范围广PVD镀膜靶材的基本原理物理气相沉积技术的基本原理可以分为三个处理步骤:(1)镀层材料的气化,即镀层材料蒸发,不类似溅射(2)电镀原子,分子或离子的。
问题4：直流磁控溅射镀膜有哪些特点有利于哪些薄膜材料的
答：1）靶中毒。在金属靶面形成的导电性较差的化合物层不仅会造成溅射速率及薄膜沉积速率的降低，还会引起溅射工况的变化以及薄膜结构、成分的波动。2）阳极消失。从靶材溅射出来的物质将会在阳极表面沉积出相应的化合物，阻塞电荷。
问题5：真空磁控溅射镀膜工艺如何选用靶材与气体?
溅射镀膜靶材答：镍靶的话，一般都是用氩气吧。颜色靠你控制镀膜速率跟充气量来决定的。不过镀玻璃膜的话好像不是用磁控溅射的吧，需要半透效果？如果是光学镀膜的话，那就要根据光波来决定了，不同的波段所呈现出来的颜色是不一样的。
问题6：磁控溅射膜是什么意思另外是不是金属膜都是采用磁控溅射技术的
答：(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜。
问题7：真空镀膜时溅射出来的靶材原子离化后带何种电性
答：溅射出来的靶材，并不一定是单个离子状态，应该是团状为主的。所以在经过电离区时，单个原子如果被电离的话肯定是正离子，团状的话也有可能吸收电子而带负电荷的。
问题8：磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
答：前者为离子轰击靶材,然后靶材物质溅射,沉积在基片上后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上。
问题9：蒸发镀膜和溅射镀膜有什么区别
答：举个通俗栗子来形容蒸发镀膜~天气比较冷的时候，对着镜子哈气，镜子表面会凝结一层水膜，可以理解为水蒸气遇冷变态~气态变液态，再冷便固态！溅射镀膜~不管气温怎样，只管啪啪啪！液体四溅，最好啪啪成及其细小的水雾。
问题10：真空溅射镀膜机器可放几种靶材?
答：有一般至少可以放两个这要看你的镀膜机的真空罩的大小之后没有溅射的相干就可以了。
二：
溅射镀膜靶材技术资料
问题1：磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
答：前者为离子轰击靶材，然后靶材物质溅射，沉积在基片上。后者物质加热，达到熔点，再达到沸点，蒸发至基片上。
问题2：磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
溅射镀膜靶材答：前者为离子轰击靶材,然后靶材物质溅射,沉积在基片上后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上。
问题3：石英片磁控溅射镀膜在使用,技术等方面有什么注意事项?
答：使用靶材时的注意事项:1、靶材的外形尺寸要与机器要求的设计一致;2、靶材外表与内在清洁度要高,是在洁净室内加工制成的;3、靶材的质量可据合同要求定制(高纯度9999%、高密度、低气体含量,尺寸(银靶材约127×178×7mm。
问题4：磁控溅射时对显示屏玻璃镀膜时的靶材是什么?要求这种膜度在外面起
答：您好：您问的这个问题可是我见到的最专业的膜的问题，我们知道目前最好的玻璃膜就是真空磁控溅射膜，磁控溅射的形式不同，可原理应该是一样的，就是把金属或说是稀有金属溅射到PET基材上，可以是一层和多层。要均匀分布才能。
问题5：靶材的介绍
答：镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同。
问题6：磁控溅射靶材铝靶,磁控溅射时靶材短路,开盖后发现靶材严重变形并且靶
答：由于纯铝的熔点很低，只有660摄氏度，不但在外力的作用下靶材变形，局部还会达到熔点，形成溶洞；2。即便靶材不短路，如果冷却系统出现问题铝靶材也容易变形；3磁控溅射镀膜电源保护性功能差，超载后不能及时自动停止工作。
问题7：磁控溅射设备用什么靶材能镀出红色?
答：1铜靶氩气溅射红铜本色2铜靶氩气+氧气溅射暗红色3铁靶（不锈钢靶）氩气+氧气溅射紫红色4铬靶氩气+氧气橘红色差不多了吧，随着你使用的气体比例不同，颜色可能略有差别，建议你慢慢的加氧气含量，就。
问题8：真空溅射镀膜要度有颜色的膜如钛金、玫瑰金、玫瑰红、紫金需要什么靶材
溅射镀膜靶材答：气体只有几种，如氩气氮气乙炔氧气，靶材就钛靶和锆靶！数据只是参考，经验是数据重要！不懂打我公司电话0577-86312296。
问题9：为什么溅射镀膜利用磁铁会提高靶材利用率
答：应该根据磁力推射原理我是做磁铁的经常有镀膜机上面的客户。
问题10：磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术
溅射镀膜靶材答：因为磁控溅射镀膜是通过气体离子去轰击靶材，将其原子打出再沉积到基板上，这个过程中溅射出来的粒子多呈原子态，而且有较大的能量，但是溅射过程中温度升高不明显，所以称为低温沉积技术，另外，这和蒸发镀膜等其他需要高温的。
三 ：