一：
溅射靶材用硅技术百科
问题1：关注半导体材料国产化,上半年三家溅射靶材公司业绩凉了2家
答：除了氟聚酰亚胺和高纯氟化氢等外,另一种半导体材料溅射靶材也是必不可少的重要材料,江丰电子(300666SZ)和阿石创(300706SZ)、有研新材子公司有研亿金在溅射靶材领域已经颇具规模,在市场中也具有一定竞争优势,是半导体材料国产化中的重。
问题2：靶材的制作工艺
答：硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），砷化铅靶材（PbAs），砷化铟靶材（InAs）。
问题3：靶材的作用和用途?
答：1、微电子领域在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是最苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求。
问题4：根据靶材的应用进行分类有多少种?主要有哪些靶材?
溅射靶材用硅答：通常,纯Al和Al合金靶材用于集成电路和功耗较小的分立器件中Au靶材则主要用于功率晶体管和微波器件等阻挡膜用靶材主要是W,Mo等难熔金属和难熔金属硅化物粘附膜用靶材主要有Ti,W等电阻膜用靶材有NiCr,MoSi2,WSi等记录介质用。
问题5：半导体的上游原材料有哪些
溅射靶材用硅答：在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
问题6：磁控溅射二氧化硅靶材的过程中会有氧产生吗
溅射靶材用硅答：溅射靶材的温度取决于能量的高低，举例：-1气压，功率5KW，偏压0。靶材表面温度为200度左右，基片温度不会高于100度~如果上升到10Kw，靶材表面温度会接近400度，基片会达到150度左右，我说的基片距离靶材有10厘米左右~此时。
问题7：溅射靶材的基本信息
溅射靶材用硅答：使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
问题8：陶瓷靶材的种类有哪些?各自应用在什么方向?
答：一、按用途分1、日用陶瓷：如餐具、茶具、缸，坛、盆、罐、盘、碟、碗等。2、艺术（工艺）陶瓷：如花瓶、雕塑品、园林陶瓷、器皿、相框、壁画、陈设品等。3、工业陶瓷：指应用于各种工业的陶瓷制品。又分以下4各方面。
问题9：靶材是什么材料
答：靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。靶材用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不。
问题10：陶瓷靶材在磁控溅射时会出现哪些问题?
答：功率过大，靶材裂开建议：功率建议别一上来弄那么大，启辉后慢慢加，最好不超100W，保持冷却水充足。温度过高，导致铟流出陶瓷靶材质脆却导热性差，功率高的话，容易出现裂靶。高纯铟的熔点在156℃，靶材工作温度高于熔点。
二：
溅射靶材用硅技术资料
问题1：石英片磁控溅射镀膜在使用,技术等方面有什么注意事项?
答：使用靶材时的注意事项:1、靶材的外形尺寸要与机器要求的设计一致;2、靶材外表与内在清洁度要高,是在洁净室内加工制成的;3、靶材的质量可据合同要求定制(高纯度9999%、高密度、低气体含量,尺寸(银靶材约127×178×7mm。
问题2：关于溅射靶材,镀膜材料类的产品,刚开始接触,如何熟悉产品,从哪方
溅射靶材用硅答：磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，较之较早点的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。对于蒸发镀膜:一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式。
问题3：生产高纯金属溅射靶材对身体有害吗
答：有靶材中毒的说法，但是靶材中毒指的是靶材受到外界环境影响或者遇到氧化物等致使靶材不能导电等正常使用，不是说靶材对人体有毒。一般靶材对人没有毒的，个别化合物靶材可能对人体接触面有伤害，接触的时候注意隔离。
问题4：关于磁控溅射靶材的问题
答：2一般磁控溅射可以分为直流（二级）溅射、中频、射频。直流溅射电源便宜，沉积膜层致密度较差，一般国内光热、薄膜电池选择使用的方法，能量较低，溅射靶材为金属靶材。射频能量较高，一般溅射陶瓷靶材。中频两者之间，溅射靶材。
问题5：磁控溅射对靶材的要求是什么?
溅射靶材用硅答：金属靶的话，靶面和背板要平整，两者之间要绝缘，靶材和mask之间也要绝缘，金属的纯度要高。
问题6：真空磁控溅射镀膜工艺如何选用靶材与气体?
答：镍靶的话，一般都是用氩气吧。颜色靠你控制镀膜速率跟充气量来决定的。不过镀玻璃膜的话好像不是用磁控溅射的吧，需要半透效果？如果是光学镀膜的话，那就要根据光波来决定了，不同的波段所呈现出来的颜色是不一样的。
问题7：单晶硅靶材和多晶硅靶材有什么区别?
溅射靶材用硅答：纯度方面：单晶硅和多晶硅一般纯度不一样，在国内单晶硅一般纯度是99999%，多晶硅纯度是9999%。在力学性质、光学性质和热学性质的各向异性方面，远不如单晶硅明显在电学性质方面，多晶硅晶体的导电性也远不如单晶硅显著，甚至。
问题8：实际生产进行溅射镀膜时为什么要求电流电压都要大
答：溅射镀膜的原理就是利用在电场作用下气体被击穿而导电的物理现象，当电流电压都大的时候物理反应才会更剧烈溅射镀膜才会更快完成，所以实际生产进行溅射镀膜时要求电流电压都要大。溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子。
问题9：磁控溅射一定要求靶材表面抛光吗
溅射靶材用硅答：磁控溅射过程中，等离子体的离子撞击靶材，溅射出靶材的原子、原子团、离子、电子、光子等，原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。溅射发生在靶材表面，靶材表面物理状态不均匀也没有关系，溅射的时候会先溅射凸起，溅射时间。
问题10：靶材安装时有哪些注意事项呢?
答：为确保足够的导热性，可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的平整度，同时确保密封圈始终在位置上。由于所使用冷却水的洁净程度和设备运行过程中可能会产生的污垢会沉积在阴极。
三 ：